岡山大学

新TEMシステム

システムの構成

様々な試料作成から高度な観察・分析ニーズに一貫として対応するシステムです。
金属を見たい，生物を見たい・・・こんな時，各種の試料作成装置を選択し，観察目的に合わせた顕微鏡が選択できる。そしてそれらをサポートできるプロがそろっています。

ナノアナリティカルイメージングシステム

特徴

フィールドエミッション電子銃（FEG)を搭載し，Csコレクタによるシャープで強力な電子線プローブによって，様々な材料の超高分解能観察，３Dトモグラフィおよび高精度な分析を行います。

仕様

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  • JEOL JEM-2100F（HRP構成，Csコレクタ付200kV，120kV）
    加速電圧：80-200kV
    分解能：0.1nm以下
    多彩な観察モード：TEM，STEM，SEM
    Csコレクタにより電子線プローブ強度は10倍に増大
    各種試料ホルダー
    　　分析用2軸傾斜（±35°，±30°），加熱2軸傾斜（±25°，±18°，～1000℃）
    　　冷却2軸傾斜（±15°，±15°，-160℃），高傾斜（±80°）
    強磁性体での非点を取りやすくするためのPowerUp回路組込み
    通常OL絞りと分析用OL絞りによって分析時も高コントラスト観察
  • JEOL JED-2300T（EDS）
    エネルギー分解能：133eV
    検出元素：B～U
    分析モード：点，線，マップ
    ドリフト補正機能
  • HAADF検出器
  • Gatan ES500W
    蛍光板全体を撮影でき，回折像も撮影できるCCDカメラ（1.3k×1k）
  • Gatan Tridiem（エネルギーフィルタ）
    エネルギーフィルターでB～Uまでの分析マッピング
    ゼロロス像による鮮明な像を観察
    原子の結合状態や原子分布状態を測定
  • Gatan USC1000
    高精細ボトムマウントCCDカメラ（2k×2k）
  • JIC-400　イオンクリーナ
  • アクティブ磁場キャンセラー
  • プロジェクターシステム

マルチビームラボシステム

特徴

電子線やイオンなど使用して高度なTEM試料を作成および分析・方位解析・３D観察するシステム。

仕様


  • JIB-4500　複合ビーム加工観察装置
    FIB：Gaイオン（加速電圧：1～30kV）
    　　　　倍率：×30～300,00
    　　　　イオン像分解能：5nm（30kV時）
    　　　　加工形状：矩形，ライン，スポット，ビットマップ
    SEM：LaB6（加速電圧：0.3～30kV）
    　　　　倍率：×5～300,000
    　　　　分解能：2.5nm（30kV時）
    　　　　S3：FIB加工中の組織観察から３D組織構築
    　　　　反射電子検出器（BEI）
    デポGun（C，W）で保護膜の作成，接着
    オムニプローブシステムで試料ピックアップ
    チャンバースコープ（CCD）でチャンバー内の状態が確認できる
    プロジェクターシステム
  • Oxford　Energy250 INCAx-act（EDS）
    LN2フリーでBe～Puまで分析
  • Oxford　NordlysS　（EBSP）
    測定速度：～100fps
    EDSとの併用分析
  • Technoorg Linda GentleMill（Ⅳ5）　FIBによるダメージ層除去
    Arイオン（加速電圧：100～2,000V）
    傾斜：0～45°，反転機能
    CCDカメラによる表面状態観察

マイクロサンプリングワークステーション

特徴

生物試料切片，金属材料など広範なTEM観察を行うための試料作成をサポート。

仕様


  • Leica　EM UC6, EM FC6　（生物用超薄切片作成装置）
    常温，凍結切片用ウルトラミクロトーム
  • Gatan　Model 601 超音波ディスクカッター
    ガラスなどの脆性材料からφ3mmのディスク打ち抜き
  • Meiwa Fosis ネオオスミウムコータ　導電処理装置
  • Struers　テヌポール－５　（電解研磨装置）
    ツインジェット研磨，スキャン機能，自動停止機能

Topcon EM-002B

特徴

高分解能観察と高傾斜観察を両立させコンタミフリーなマルチパーパスTEM

仕様
  • LaB6（加速電圧：20－200kV）
    EDS：Kevex levelⅢ
    イメージインテンシファイア
  • 高分解能（UHR)モード
    分解能：0.14nm（格子），0.18nm（粒子）
    倍率：×25～1,600,000
    最小プローブ径：0.5nm
    2軸傾斜ホルダー（±10°，±7°）
  • 高傾斜（HTs）モード
    分解能：0.20nm（格子），0.30nm（粒子）
    倍率：×25～880,000
    最小プローブ径：1.5nm
    2軸傾斜ホルダー（±70°，±30°）
    1軸引張ホルダー，1軸高温ホルダー（～1000℃）

JEM-2000EXⅡ（日本電子製）

特徴

薄片試料の微細構造や形態を直接観察できます。また，電子線回折により結晶性試料の解析も可能です。

仕様
  • 電子銃フィラメント
    ヘアピン形タングステン
  • 加速電圧
    80－200kV
  • 倍率
    1,200X-1,000,000X　30ステップ
  • 電子線回折カメラ長
    100-2,500mm　15ステップ
  • 試料傾斜
    ±25°（ｘ傾斜）

OLYMPUS BX51FL（蛍光顕微鏡）

特徴

・冷却CCDカメラとアポクロマートレンズにより高精細画像の撮影
・明視野、位相差、微分干渉、蛍光観察が可能
・中間変倍装置により容易に観察倍率の変更が可能

仕様
  • 本体
    BX51透過・落射本体　＜BX51TRF＞
  • 対物レンズ
    ■プランセミアポクロマートレンズ
    　×40　＜UPLFLN40XPH＞
    　×100　(油浸)　＜UPLFLN100XO2PH＞
    ■プランアポクロマートレンズ
    　×10　＜UPLSAPO10X2＞
    　×20　＜UPLSAPO20X＞
    　×40　＜UPLSAPO40X2＞
    　×100　（油浸)　＜UPLSAPO100XO＞
  • カメラユニット
    ペルチェ冷却式CCDカメラ　＜DP72＞
  • 中間変倍装置
    ×1, ×1.25, ×1.6, ×2　＜U-CA＞
  • DICプリズム
    高コントラスト微分干渉プリズムスライダ　＜U-DICTHC＞

HITACHI　H-7500

特徴

H-7500形電子顕微鏡は、医学、生物学、高分子材料研究に対応できる汎用型電顕。PC制御により、ウィンドウ上での条件設定、変更が可能。オートエミッションモードで加速電圧印加からエミッション発生までを自動制御。EDX‐Super Xerophy、STEM H-7510 (Hitachi)により元素分析、マッピングが可能。

仕様
  • 分解能
    0.204nm （格子像）
    0.36nm （粒子像）
  • 加速電圧
    40～120kV
  • 倍率
    ZOOM　（HCモード）　×700～×200,000
    　　　　　（HRモード）　×4,000～×600,000
    LOW MAG 　　　　 　　×50～×1,000
  • エネルギー分散型Ｘ線分析装置 EMAX-5770W（HORIBA）
    高純度Si軽元素X線検出器
    定性，定量，マッピング
  • 周辺機器その他
    ■ウルトラミクロトーム
    　LEICA ULTRACUT UCT
    ■SEM
    　Hitachi S-800電界放射形
    　クライオも可能
    　元素分析装置EMAX-5770W搭載
    ■イオンスパッタ
    Hitachi E-102　ターゲットPt-Pd
    　親水化処理機能
    ■カーボンコーター
    　Hitachi E-201

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